Toggle navigation
English
Ελληνικά
Ελληνικά
English
Ελληνικά
Σύνδεση
Toggle navigation
Προβολή τεκμηρίου
Αρχική
Δημοσιεύσεις ΠΚ / UCY Publications
002 Σχολή Θετικών και Εφαρμοσμένων Επιστημών / Faculty of Pure and Applied Sciences
Τμήμα Φυσικής / Department of Physics
Προβολή τεκμηρίου
Αρχική
Δημοσιεύσεις ΠΚ / UCY Publications
002 Σχολή Θετικών και Εφαρμοσμένων Επιστημών / Faculty of Pure and Applied Sciences
Τμήμα Φυσικής / Department of Physics
Προβολή τεκμηρίου
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.
Article
Photothermal Reflectance Investigation of Implanted Silicon - the Influence of Thermal Annealing
Ημερομηνία
1995
Συγγραφέας
Seas, Antonios
Christofides, Constantinos
ISSN
0003-6951
Source
Applied Physics Letters
Volume
66
Issue
24
Pages
3346-3348
Google Scholar check
Keyword(s):
TEMPERATURE
ION-IMPLANTATION
OPTICAL REFLECTANCE
PROCESSED SILICON
DAMAGE
SEMICONDUCTORS
WAFERS
DEFECTS
LAYERS
Metadata
Εμφάνιση πλήρους εγγραφής
DOI
10.1063/1.113752
URI
http://gnosis.library.ucy.ac.cy/handle/7/59038
Collections
Τμήμα Φυσικής / Department of Physics
[1410]
Cite as
APA
Vancouver
Harvard
BibTeX
Αναζήτηση στο Γνῶσις
Αυτή η συλλογή
Πλοήγηση
Όλο το Γνῶσις
Κοινότητες & Συλλογές
Ανά ημερομηνία υποβολής
Συγγραφείς
Τίτλοι
Λέξεις κλειδιά
Ανά Τύπο
Ανά Τμήμα
Ανά Σχολή
Αυτή η συλλογή
Ανά ημερομηνία υποβολής
Συγγραφείς
Τίτλοι
Λέξεις κλειδιά
Ανά Τύπο
Ανά Τμήμα
Ανά Σχολή
Ο λογαριασμός μου
Σύνδεση
Statistics
View Usage Statistics